精密加工、医疗设施及实验室、电子和半导体、食品、化纤纺织、制药和生命科学、医疗、文物保护、大型工业控制室、数据中心与服务器、电信基站和网络设备室。 温度控制精度：±0.1℃ 湿度控制精度：±1.5%

可精密控制纳米~亚微米级加工设备周围温度的稳定状态。防止设备本身与加工品因温度变化发生伸缩造成的加工精密误差。 如：超精密非球面加工机、超精密单点精钢石车床等。 2.精密测量·检查 ：通过保证被测量物与精密测量仪器周围温度的稳定性，到达提升测量精度的目的。 如：超精密三坐标测量仪等。 3. 曝光 保持电子束曝光设备内部温度均匀，使执行光源与目标物冷却。防止光线的折射率发生改变，达到曝光品质优良。 4.涂布 保持电子束曝光设备内部温度均匀，使执行光源与目标物冷却。防止光线的折射率发生改变，达到曝光品质优良。 5.电子束曝光 控制温湿度保持稳定，防止因为电子束的温度不均匀，造成折射与遮罩基板的伸缩。以达到提升扫描品质的目的。 如：光刻机 6.基板印刷 印刷机周围温湿度保持稳定，让墨水的粘度与挥发量保持稳定，以达到提升品质的目的。 如：丝网印刷机